专利名称：用于远程等离子体监测的光学发射光谱仪(OES)专利类型：发明专利
发明人：T·S·周,S·朴,J·金,D·卢博米尔斯基,S·文卡特拉曼申请号：CN201880024330.0申请日：20180410公开号：CN110494967A公开日：20191122
摘要：本申请描述了用于使用远程等离子体来蚀刻基板的方法和系统。远程激发的蚀刻剂被形成在远程等离子体中，并通过喷头流入基板处理区域以蚀刻基板。从基板正上方的基板处理区域获取光学发射光谱。光学发射光谱可用于确定蚀刻的终点，确定蚀刻速率或以其他方式表征蚀刻工艺。弱等离子体可存在于基板处理区域中。弱等离子体可能相较于远程等离子体具有低得多的强度。在蚀刻工艺中于基板上方不使用偏压等离子体的情况下，可以在靠近基板处理区域一侧所设置的视口附近点燃弱等离子体以表征蚀刻剂。
申请人：应用材料公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：上海专利商标事务所有限公司
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容