专利名称：一种靶材使用检测系统和方法专利类型：发明专利
发明人：李胜斌,尹明格,付艳强,刘勃,张立星,车奉周,刘占伟,
金相起
申请号：CN201210465472.5申请日：20121116公开号：CN102994970A公开日：20130327
摘要：本发明涉及溅射镀膜技术领域，特别涉及一种靶材使用检测系统和方法，用于防止靶材使用过量，提高溅射镀膜工序产品的合格率。本发明公开了一种靶材使用检测系统，包括：靶材，且在靶材的背板上设置有至少一个具有凹槽的凸台和与凹槽连通的导气通道，所述凹槽的槽口被所述靶材的靶胚和连接部密封；与所述导气通道连通的流量计，用于监测所述导气通道和凹槽中的气体是否流动；以及与所述流量计信号连接的溅射设备的自锁装置，用于获取所述流量计的状态，并当所述流量计显示流量时启动，使溅射设备停止工作。
申请人：京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人：李娟
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