专利名称：一种含羟胺清洗液、其制备方法及应用专利类型：发明专利发明人：王溯,蒋闯
申请号：CN201711146092.4申请日：20171117公开号：CN107765514A公开日：20180306
摘要：本发明公开了一种含羟胺清洗液、其制备方法及应用。本发明的含羟胺清洗液由下述原料制得，所述的原料包括下列质量分数的组分：10‑60％的水、10‑50％的水溶性有机溶剂、0.1‑20％的胺化合物、1‑30％的羟胺类化合物和/或其盐、和5‑15％的环糊精改性烷撑二醇烷基醚化合物，各组分质量分数之和为100％。本发明的含羟胺清洗液超越了传统羟胺类清洗剂的清洗能力，同时对金属和非金属的腐蚀速率较小。
申请人：上海新阳半导体材料股份有限公司
地址：201616 上海市松江区思贤路3600号
国籍：CN
代理机构：上海弼兴律师事务所
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