专利名称:一种含羟胺清洗液、其制备方法及应用专利类型:发明专利发明人:王溯,蒋闯
申请号:CN201711146092.4申请日:20171117公开号:CN107765514A公开日:20180306
摘要:本发明公开了一种含羟胺清洗液、其制备方法及应用。本发明的含羟胺清洗液由下述原料制得,所述的原料包括下列质量分数的组分:10‑60%的水、10‑50%的水溶性有机溶剂、0.1‑20%的胺化合物、1‑30%的羟胺类化合物和/或其盐、和5‑15%的环糊精改性烷撑二醇烷基醚化合物,各组分质量分数之和为100%。本发明的含羟胺清洗液超越了传统羟胺类清洗剂的清洗能力,同时对金属和非金属的腐蚀速率较小。
申请人:上海新阳半导体材料股份有限公司
地址:201616 上海市松江区思贤路3600号
国籍:CN
代理机构:上海弼兴律师事务所
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