一种干法刻蚀机及其刻蚀方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种干法刻蚀机及其刻蚀方法专利类型：发明专利发明人：刘思洋

申请号：CN201310753880.5申请日：20131231公开号：CN103745904A公开日：20140423

摘要：本发明公开一种干法刻蚀机及其刻蚀方法。该干法刻蚀机包括反应室以及设置于反应室中的上电极板和下电极板，上电极板上开设有多个用于向反应室中通入气体的通气孔，多个通气孔与多个刻蚀区域一一对应设置；还包括：与反应室连接的流量控制器，用于交替地控制多个通气孔中的气流量；设置在反应室中的多个刻蚀速率检测装置，用于检测基板上各个刻蚀区域的刻蚀速率；分别与流量控制器和多个刻蚀速率检测装置电连接的控制器，用于获取多个刻蚀区域的刻蚀速率，并在至少两个刻蚀区域的刻蚀速率不等时，在至少两个刻蚀区域的刻蚀速率不等时控制流量控制器调整相应的通气孔的气流量，以使多个刻蚀区域的刻蚀速率均相等。

申请人：深圳市华星光电技术有限公司

地址：518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

国籍：CN

代理机构：深圳市顺天达专利商标代理有限公司

代理人：蔡晓红

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