专利名称：锡掺杂的氧化铟薄膜及微细图形制备工艺专利类型：发明专利
发明人：赵高扬,李颖,张卫华,韩晶,陈源清申请号：CN200410026379.X申请日：20040730公开号：CN1599024A公开日：20050323
摘要：本发明公开了一种锡掺杂的氧化铟薄膜及微细图形制备工艺，将硝酸铟和四氯化锡加入乙酰丙酮溶剂中，然后加入去离子水，制得溶液A；苯酰丙酮为螯合剂加入乙二醇甲醚溶剂中，制得溶液B，将溶液A、B混合，搅拌、沉化，得到感光性锡掺杂的氧化铟溶胶。将高压汞灯或紫外激光通过具有微细图形的掩模，照射锡掺杂的氧化铟凝胶薄膜，在大气环境下紫外光照射，去掉掩模，然后在无水乙醇中放置，未被紫外光照射的部分被溶解，经照射的部分完整保留下来，在进行加热，除去有机物，得到了锡掺杂的氧化铟薄膜微细图形。本发明不需特殊的真空和反应室，可以制作大面积的微细图形，无需光致抗蚀剂和腐蚀性介质，可以获得高质量ITO薄膜的微细图形。
申请人：西安理工大学
地址：710048 陕西省西安市金花南路5号
国籍：CN
代理机构：西安通大专利代理有限责任公司
代理人：陈翠兰
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