一种镀铜氧化铟锡膜蚀刻工艺[发明专利]

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专利名称：一种镀铜氧化铟锡膜蚀刻工艺专利类型：发明专利

发明人：王涛,王永亮,马振军,辛克文,杨仲艳申请号：CN201310394903.8申请日：20130902公开号：CN103436884A公开日：20131211

摘要：本发明涉及触摸屏加工，尤其涉及一种镀铜氧化铟锡膜蚀刻工艺。其步骤：1.在镀铜氧化铟锡膜上丝印UV耐酸油墨；2.将镀铜氧化铟锡膜进行紫外灯固化；3.铜蚀刻液配制：将HO、HCl、甲基苯骈三氮唑、去离子水按照摩尔比10：3：1：50混合均匀；4.将镀铜氧化铟锡膜浸入铜蚀刻液中，60s后取出；5.氧化铟锡蚀刻液配制：将草酸、2-甲基咪唑啉、去离子水按照摩尔比10：1：100混合均匀；6.将镀铜氧化铟锡膜浸入氧化铟锡蚀刻液中，60s后取出；7.将镀铜氧化铟锡膜浸入浓度为3%NaOH的溶液中，浸泡60s后取出。本工艺简单，对设备要求低且易于控制，能满足减少工序、降低成本、提高产能等多方面要求。

申请人：中环高科(天津)股份有限公司

地址：300385 天津市西青区微电子工业区微三路6号

国籍：CN

代理机构：天津中环专利商标代理有限公司

代理人：王凤英

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