专利名称：一种恒流二极管结构专利类型：实用新型专利发明人：王英杰
申请号：CN201620116899.8申请日：20160205公开号：CN205542795U公开日：20160831
摘要：本实用新型提供了一种恒流二极管结构，在N型外延层中增设P型发射区，N型源区、P型栅极区、N型外延层、N型漏区组成恒流二极管，P型衬底、N型外延层和P型发射区组成PNP三极管，由此，单位面积电流大幅提高，并且器件的温度稳定性和均匀性较好。
申请人：杭州士兰集成电路有限公司
地址：310018 浙江省杭州市杭州经济技术开发区10号大街(东)308号
国籍：CN
代理机构：上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：余毅勤
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