专利名称：清洁方法专利类型：发明专利
发明人：吴义烈,三森健一,宫泽聪申请号：CN02102822.2申请日：19970327公开号：CN1494955A公开日：20040512
摘要：本发明涉及一种清洁方法，即涉及一种用于清除在制造液晶显示器基片或半导体过程中，粘附在基片等表面上的污物的清洁方法。其中含水氧化酸性清洁溶液或含水氧化碱性清洁溶液由酸性或碱性溶液与含臭氧的水混合制成。含水还原酸性清洁溶液或含水还原碱性清洁溶液由酸性或碱性溶液与含氢的水混合制成。这些含水清洁溶液中的每一种溶液都具有有效的清洁能力，其氧化还原电位和pH值可以单独控制。因此，根据在每一制造工序过程中，粘附在物体上的污物的形式，选择相应的含水清洁溶液，利用一种形式的含水清洁溶液清洗既可清除多种污物。
申请人：阿尔卑斯电气株式会社,奥璐佳瑙股份有限公司
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京三幸商标专利事务所
代理人：刘激扬
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