基板处理装置和基板处理方法[发明专利]

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专利名称：基板处理装置和基板处理方法专利类型：发明专利发明人：桥本光治,长田直之申请号：CN201810169101.X申请日：20180228公开号：CN108630573A公开日：20181009

摘要：本发提供一种抑制或防止基板间的处理产生偏差的基板处理装置和方法。该装置包括：基板保持单元，保持基板；处理液流通构件，由内壁面划分出与喷出口连通的处理液流通路的至少一部分；处理液供给单元，向处理液流通路供给比常温高的处理液；温度变化单元，从外侧对处理液流通构件的外壁面加热或冷却，使处理液流通构件的温度变化；控制装置，执行基板处理工序和平衡温度维持工序，在基板处理工序中，控制处理液供给单元，向处理液流通路供给比常温高的处理液，从喷出口喷出处理液，对基板实施处理，在平衡温度维持工序中，在未从处理液供给单元向处理液流通路供给处理液的状态下，控制温度变化单元，将处理液流通构件的内壁面维持为热平衡温度。

申请人：株式会社斯库林集团

地址：日本京都府

国籍：JP

代理机构：隆天知识产权代理有限公司

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