专利名称:改善微反射镜间介质层缺陷及制作硅基液晶显示器
的方法
专利类型:发明专利发明人:向阳辉,曾贤成申请号:CN200710041356.X申请日:20070528公开号:CN101315502A公开日:20081203
摘要:一种改善微反射镜间介质层缺陷的方法,包括下列步骤:首先提供带有金属层的硅基底,所述金属层中包含贯穿金属层的沟槽;在金属层上及沟槽内沉积介质层,所述沉积法的偏压强为3000W~3500W;在介质层上形成光阻层;蚀刻光阻层和介质层至露出金属层,形成微反射镜阵列。本发明还提供一种制作硅基液晶显示器的方法。介质层在沟槽处的开口高宽比及开口宽度较大,在后续蚀刻工艺中在与沟槽相接的金属层上不产生绝介质层侧墙,进而减少了微反射镜漫反射,提高微反射镜反射率。
申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
地址:201203 上海市浦东新区张江路18号
国籍:CN
代理机构:北京集佳知识产权代理有限公司
代理人:逯长明
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