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改善微反射镜间介质层缺陷及制作硅基液晶显示器的方法[发明专利]

来源：意榕旅游网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：改善微反射镜间介质层缺陷及制作硅基液晶显示器

的方法

专利类型：发明专利发明人：向阳辉,曾贤成申请号：CN200710041356.X申请日：20070528公开号：CN101315502A公开日：20081203

摘要：一种改善微反射镜间介质层缺陷的方法，包括下列步骤：首先提供带有金属层的硅基底，所述金属层中包含贯穿金属层的沟槽；在金属层上及沟槽内沉积介质层，所述沉积法的偏压强为3000W～3500W；在介质层上形成光阻层；蚀刻光阻层和介质层至露出金属层，形成微反射镜阵列。本发明还提供一种制作硅基液晶显示器的方法。介质层在沟槽处的开口高宽比及开口宽度较大，在后续蚀刻工艺中在与沟槽相接的金属层上不产生绝介质层侧墙，进而减少了微反射镜漫反射，提高微反射镜反射率。

申请人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

地址：201203 上海市浦东新区张江路18号

国籍：CN

代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：逯长明

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