一种高效多功能半导体晶片清洗装置[实用新型专利]

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专利名称：一种高效多功能半导体晶片清洗装置专利类型：实用新型专利发明人：不公告发明人申请号：CN2020207266.6申请日：20200426公开号：CN2117833U公开日：20201027

摘要：本实用新型公开了一种高效多功能半导体晶片清洗装置，涉及半导体材料技术领域。本实用新型包括底座，所述底座的上表面固定连接有液压缸和箱体，液压缸的伸缩杆固定连接有活动杆件，活动杆件固定连接有升降板，升降板的上表面固定连接有电机一，电机一的旋转轴固定连接有顶板，顶板固定连接有连接壳，连接壳固定连接有底板，顶板固定连接有电机二，电机二转动连接有若干旋转轴，旋转轴固定连接有放置架。本实用新型通过液压缸带动升降板的上下移动和电机一的旋转带动底板的转动，从而实现放置架的升降和圆周移动，以达到将放置架上的半导体晶片在不同的清洗剂中进行清洗并且干燥，能够极大的提高清洗的效率和清洗的效果。

申请人：成都富源华能科技有限公司

地址：610000 四川省成都市武侯区少陵路18号

国籍：CN

代理机构：上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：何艳娥

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