光栅的制作方法[发明专利]

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专利名称：光栅的制作方法专利类型：发明专利发明人：符雅丽,王新鹏申请号：CN201210120460.9申请日：20120423公开号：CN1033787A公开日：20131030

摘要：本发明提供了一种光栅的制作方法：在半导体衬底上依次形成刻蚀终止层、无定形碳硬掩膜层和光阻胶层；将光罩上的光栅图形转移到光阻胶层上，形成图案化的光阻胶层；以图案化的光阻胶层为掩膜，刻蚀无定形碳硬掩膜层至显露出刻蚀终止层；无定形碳硬掩膜层经过刻蚀后具有与光罩上的光栅图形相应的间距；去除光阻胶层后，沉积氧化硅层并回刻所述氧化硅层，使氧化硅层填充在经过刻蚀的无定形碳硬掩膜层两侧的空间位置，其高度与无定形碳硬掩膜层相同；灰化去除所述无定形碳硬掩膜层；沉积金属并对其进行化学机械研磨，形成填充在氧化硅层两侧的金属线，其高度与无定形碳硬掩膜层相同。采用本发明能够得到垂直形状的小尺寸光栅金属线。

申请人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

地址：201203 上海市浦东新区张江路18号

国籍：CN

代理机构：北京德琦知识产权代理有限公司

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