专利名称：制作光纤光栅的装置专利类型：实用新型专利发明人：戴立伟,闫大鹏,曹磊申请号：CN202020139215.2申请日：20200121公开号：CN211698270U公开日：20201016
摘要：本实用新型涉及光纤光栅制作技术领域，公开了一种制作光纤光栅的装置，包括：光路浸入工装，光路浸入工装包括中空的本体，本体的内部填充有预设折射率的液体，本体上设有对称布置的用于光敏光纤穿过的两个通道，本体的内部设有与通道同轴布置的涂层剥除窗口；本体的内部安装有相位掩模板，以使光敏光纤制作为光纤光栅。本实用新型提供的制作光纤光栅的装置，通过将相位掩模板与光敏光纤完全浸入调制好的液体当中，将非紫外的相干光束变换为深紫外的相干光束，同时通过相位掩模板的作用产生明暗相间条纹，在光敏光纤的纤芯上形成对应的周期性折射率调制，最终实现光纤光栅制作的目的。
申请人：武汉锐科光纤激光技术股份有限公司
地址：430000 湖北省武汉市东湖开发区高新大道999号
国籍：CN
代理机构：北京路浩知识产权代理有限公司
代理人：吕伟盼
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