（12）实用新型专利
（21）申请号 CN201721183719.9 （22）申请日 2017.09.15 （71）申请人 应用材料公司
地址 美国加利福尼亚州
（10）申请公布号 CN207705142U
（43）申请公布日 2018.08.07
（72）发明人 D·卢博米尔斯基
（74）专利代理机构 上海专利商标事务所有限公司
代理人 李炜
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
电感耦合的等离子体源及包括其的半导体处理腔室
（57）摘要
本申请公开了具有流通源的腔室。所描述
的处理腔室可以包括腔室外壳，腔室外壳至少部分地限定半导体处理腔室的内部区域。腔室可以包括定位在腔室外壳内的喷头，并且喷头可至少部分地将内部区域划分为远程区域和处理区域，在处理区域能包含基板。腔室也可包括定位在喷头与处理区域之间的电感耦合的等离子体源。电感耦合的等离子体源可以包括在电介质材料内的导电材料。
法律状态
法律状态公告日
2018-08-07
授权
法律状态信息
授权
法律状态
权利要求说明书
电感耦合的等离子体源及包括其的半导体处理腔室的权利要求说明书内容是....请下载后查看
说明书
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