专利名称：成膜方法专利类型：发明专利发明人：吉井直树,小岛康彦申请号：CN200580001493.X申请日：20050228公开号：CN1906327A公开日：20070131
摘要：本发明提供一种通过交替向基板供给含金属的成膜原料和还原性气体，在上述基板上形成含金属的薄膜的成膜方法，通过等离子体将上述成膜原料的至少一部分在气相中进行离解或分解，并供给到基板上。
申请人：东京毅力科创株式会社
地址：日本东京
国籍：JP
代理机构：北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人：龙淳
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