专利名称:样品中感兴趣结构的高空间分辨率成像专利类型:发明专利
发明人:J·弗林,C·埃格林,A·艾格纳,A·舍恩勒,M·博西,S·黑尔申请号:CN200980118266.3申请日:20090520公开号:CN102037347A公开日:20110427
摘要:对于样品中感兴趣结构进行高空间分辨率成像,从一组物质中选择一种物质,这些物质具有两个不同的电子状态:荧光第一状态以及非荧光第二状态;这些物质能够通过将其激发为荧光的光从其第一状态部分地转换到其第二状态,并且这些物质能够从其第二状态返回到其第一状态;将所述样品的感兴趣结构成像在传感器阵列上,所述成像的空间分辨率极限大于(即差于)所述样品中所述物质的最接近的相邻分子之间的平均间隔;在具有比所述空间分辨率极限大的尺寸的区域中使所述样品暴露于光,部分所述物质被所述光交替激发以发射荧光并且被转换到其第二状态,并且所述物质中分别处于所述第一状态的所述分子的至少10%与其处于所述第一状态的最接近的相邻分子的距离大于所述空间分辨率极限;并且在所述样品连续暴露于所述光的期间在由所述传感器阵列记录的多个图像中注册由所述物质从所述区域自发地发射的荧光。
申请人:马克思-普朗克科学促进协会
地址:德国慕尼黑
国籍:DE
代理机构:永新专利商标代理有限公司
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