专利名称：一种深纹路有机硅合成革及其制备方法专利类型：发明专利
发明人：张再成,杨家昌,谢朝辉,吴长林,邓军申请号：CN201610146645.5申请日：20160315公开号：CN105625046A公开日：20160601
摘要：本发明公开了一种深纹路有机硅合成革及其制备方法，包括由上到下依次设置的纹路层(3)、粘结层(2)和基材(1)，将无流动性的加成型硅胶采用流延方式涂覆于离型纸或离型膜上，通过刻有纹路的压力辊，使硅胶表面压出纹路,在80～200℃温度下硫化1～20分钟，剥离离型纸，制得纹路层(3)；在基材(1)表面涂覆液体硅胶作粘结层(2)，贴合纹路层(3)硫化，即可制得深纹路有机硅合成革；硅胶内因有气泡包裹物理性能下降而使得皮革的耐刮伤性和耐磨性下降，而本发明是先施胶后辊压形成纹路可以避免这一问题。同时因皮革纹路是由压力辊表面所刻纹路决定，本发明可以解决皮革纹路受离型纸限制的问题。
申请人：惠州赛力珑新材料有限公司
地址：516083 广东省惠州市大亚湾区塘布村泓淋科技工业区
国籍：CN
代理机构：江苏楼沈律师事务所
代理人：王伟
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