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一种硅片晶圆划片后检测工艺[发明专利]

来源:意榕旅游网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种硅片晶圆划片后检测工艺专利类型:发明专利发明人:徐志华,葛建秋,陈玲申请号:CN201811218209.X申请日:20181019公开号:CN111081575A公开日:20200428

摘要:本发明具体涉及一种硅片晶圆划片后检测工艺,包括以下步骤:步骤1、当第一片划完后,操作者应立即取出,在显微镜下检查或目视检查,划片槽是否偏斜,是否全划穿,蓝膜上是否有刀痕,有无芯片脱落,有效电路区中是否有缺角,裂缝,钝化层受损,擦伤和沾污等的芯片;步骤2、每片圆片CH1、CH2两个方向切割第五刀时必须停机检查,在划片过程中,每三十刀检查一次,检查内容包括切割槽宽度、切割位置等;步骤3、切割刀痕的测量:操作员在设备上检查切割刀痕尺寸的数据,并且记录;步骤4、对于已完成检查的圆片,则应将圆片存放在干燥箱或氮气柜中。本发明的一种硅片晶圆划片后检测工艺,检测内容全面先进,提高了产品质量,降低企业的生产成本。

申请人:江阴苏阳电子股份有限公司

地址:214400 江苏省无锡市江阴市华士镇向阳村向阳路1号

国籍:CN

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