专利名称：溅射方法和溅射设备专利类型：发明专利
发明人：奥田晃,横山政秀,早田博申请号：CN97119330.4申请日：19970828公开号：CN1178843A公开日：19980415
摘要：一种在放电开始之前通常保持打开的触发气体馈给系统。当产生放电时,即刻关闭触发气体馈给系统,从而使真空室处于溅射压力。在放电完成之后再次打开触发气体馈给系统。持续打开状态直至开始另一次放电。因此,在放电前真空室压力总是保持恒定,并且将真空室恢复到溅射压力的时间缩短。
申请人：松下电器产业株式会社
地址：日本大阪府
国籍：JP
代理机构：中国专利代理()有限公司
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