专利名称：掩膜板、其制作方法和利用其进行蒸镀方法专利类型：发明专利
发明人：王有为,张嵩,孙韬,,蔡鹏,郭远征申请号：CN201710428142.1申请日：20170608公开号：CN107099770A公开日：20170829
摘要：一种掩膜板、其制作方法和利用其进行蒸镀方法，该掩膜板包括开口板，所述开口板包括开口和位于开口之外的遮挡部，遮挡部中设置有凹槽，凹槽的深度小于遮挡部的厚度。在蒸镀过程中掩膜板的凹槽与待蒸镀基板的凸起之间形成空隙，从而可以避免待蒸镀基板在该凸起处产生颗粒。
申请人：京东方科技集团股份有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：王晓燕
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