专利名称：掩膜版及蒸镀装置专利类型：发明专利
发明人：张浩瀚,李慧,刘明星,甘帅燕申请号：CN202010880995.0申请日：20200827公开号：CN112176282A公开日：20210105
摘要：本申请提供了一种掩膜版和蒸镀装置，该掩膜版包括：框架；多个支撑条和多个掩膜条，平行间隔设置于框架的第一表面，且相邻支撑条之间设置有一个掩膜条；其中，支撑条远离框架一侧表面的面积小于其靠近框架一侧表面的面积；掩膜条远离框架一侧表面的面积大于其靠近框架一侧表面的面积；支撑条邻近掩膜条的边缘设置有第一台阶部，第一台阶部包括与第一表面平行的第一台阶面；掩膜条邻近支撑条的边缘设置有第二台阶部，第二台阶部包括与第一表面平行的第二台阶面；第二台阶面与第一台阶面搭接，且支撑条远离框架的一侧表面高于掩膜条。通过上述方式，本申请可以使得在蒸镀对位过程中待蒸镀基板不会直接压到掩膜条。
申请人：合肥维信诺科技有限公司
地址：230001 安徽省合肥市新站区魏武路与新蚌埠路交口西南角
国籍：CN
代理机构：广东君龙律师事务所
代理人：丁建春
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