一种多孔高分子微球阴离子填料的制备方法[发明专利]

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专利名称：一种多孔高分子微球阴离子填料的制备方法专利类型：发明专利

发明人：王勇,朱丽丽,何洁,滕超,任连兵,洪梅申请号：CN201510924619.6申请日：20151211公开号：CN106866863A公开日：20170620

摘要：本发明公开了一种多孔高分子微球阴离子填料的制备方法，先引入氯甲基，然后通过表面接枝方法在微球表面引入乙二胺，形成阴离子填料。本发明通过采用单分散的聚苯乙烯/二乙烯基苯微球为基底，通过与氯甲醚反应引入氯甲基功能团，再通过表面接枝法与乙二胺反应形成阴离子填料。本发明特点是，所得阴离子填料微球尺寸可控，表面官能团种类可控，工艺操作简便易行，原料成本低廉，操作简便、易于工业化实施。

申请人：北京大学深圳研究生院

地址：518055 广东省深圳市南山区西丽深圳大学城北大园区

国籍：CN

代理机构：深圳鼎合诚知识产权代理有限公司

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