一种低挥发高性能水基清洗剂及清洗方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种低挥发高性能水基清洗剂及清洗方法专利类型：发明专利

发明人：甘贵生,曹华东,刘歆,田谧哲,夏大权,蒋刘杰,吴应雪,

蒋妮,高颢洋

申请号：CN2018119581.9申请日：20181218公开号：CN109370812A公开日：20190222

摘要：本发明提供了一种低挥发高性能水基清洗剂及清洗方法，由以下质量百分比的原料制成：表面活性剂6%~12%；缓蚀剂0%~0.1%;消泡剂0%~0.05%；余量为去离子水；表面活性剂为非离子表面活性剂、两性离子表面活性剂、双子星非离子型表面活性剂和阳离子表面活性剂复配而成，其中非离子表面活性剂和双子星非离子型表面活性剂占总重量的50%~69%；两性离子表面活性剂占总重量的10%~25%；阳离子表面活性剂占总重量的15%~35%。本发明清洗剂配合清洗工艺能够强力去除松香型助焊剂焊后的表面残留物，焊点保持光亮，表面绝缘性能好；与传统清洗剂相比，本发明完全低挥发性，安全环保，不会产生公害物质；清洗过程中几乎没有泡沫产生，清洗工艺易操作。

申请人：重庆理工大学

地址：4000 重庆市巴南区李家沱红光大道69号

国籍：CN

代理机构：重庆博凯知识产权代理有限公司

代理人：李晓兵

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