您好,欢迎来到意榕旅游网。
搜索
您的当前位置:首页GaAs基含B高应变量子阱及其制备方法、半导体激光器[发明专利]

GaAs基含B高应变量子阱及其制备方法、半导体激光器[发明专利]

来源:意榕旅游网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:GaAs基含B高应变量子阱及其制备方法、半导体激

光器

专利类型:发明专利

发明人:王琦,贾志刚,郭欣,任晓敏,黄永清申请号:CN201110401751.0申请日:20111206公开号:CN103151710A公开日:20130612

摘要:本发明涉及半导体光电子材料与器件领域,公开了一种GaAs基含B高应变量子阱的制备方法,包括步骤:S1、在GaAs衬底上生长GaAs缓冲层;S2、在所述GaAs缓冲层的顶部生长高应变阱层,生长过程中通入B源形成含B高应变阱层;S3、在所述含B高应变阱层上生长GaAs垒层或应变补偿垒层,形成GaAs基含B高应变量子阱。本发明还公开了一种GaAs基含B高应变量子阱以及一种边发射半导体激光器。本发明通过将B并入到InGaAs或GaAsSb中补偿In、Sb并入GaAs导致的晶格常数变大,从而实现对晶格失配度的;通过将B并入到InGaAs或GaAsSb中降低高应变InGaAs或GaAsSb的表面能,从而进一步拓展InGaAs/GaAs和GaAsSb/GaAs高应变量子阱的发光波长;通过对含B高应变阱层进行应变补偿,从而提高量子阱的光学质量。

申请人:北京邮电大学

地址:100876 北京市海淀区西土城路10号

国籍:CN

代理机构:北京路浩知识产权代理有限公司

代理人:王莹

更多信息请下载全文后查看

因篇幅问题不能全部显示,请点此查看更多更全内容

Copyright © 2019- yrrf.cn 版权所有 赣ICP备2024042794号-2

违法及侵权请联系:TEL:199 1889 7713 E-MAIL:2724546146@qq.com

本站由北京市万商天勤律师事务所王兴未律师提供法律服务