[12]实用新型专利说明书
[21]ZL 专利号
200320108962.6
[51]Int.CI7
C23C 14/26
[45]授权公告日2005年1月5日[22]申请日2003.10.16[21]申请号200320108962.6
[73]专利权人上海复旦天臣新技术有限公司
地址200437上海市邯郸路98号甲无锡大厦15楼[72]设计人徐良衡 徐英明 陈绍
[11]授权公告号CN 2668649Y
[74]专利代理机构中原信达知识产权代理有限责任公
司
代理人罗大忱
权利要求书 1 页 说明书 4 页 附图 1 页
[54]实用新型名称
一种用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源[57]摘要
本实用新型设计了一种用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源，包括料斗和加热片。其特征在于，所说的料斗为V字形斜槽，所说的加热片设置在V字形斜槽的底部。本实用新型改变了传统舟型蒸发源，盛放蒸发物料的料斗为V字形斜槽，物料的蒸发只依靠料斗底部的加热片。本实用新型提供的新型蒸发源克服了传统舟型蒸发源的缺陷，大幅度的提高了物料蒸发的稳定性，从而提高了镀膜的均匀性和质量。同时改善了对物料蒸发的可控制性，使镀膜过程更加易于控制和调节。这种新型的蒸发源适用于各种类型和尺寸的真空蒸发镀膜系统。
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权 利 要 求 书
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1.一种用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源，包括料斗(1)、底部支座(2)、加热电极(3)和加热片(4)，其特征在于，所说的料斗(1)为包括两个独立斜边(6)的V字形斜槽，独立斜边(6)通过支架(10)固定在底部支座(2)上，加热片(4)嵌在V字形斜槽的底部，加热片(4)与加热电极(3)相连接，热电极(3)固定在底部支座(2)上。 2.根据权利要求1所述的用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源，其特征在于，所说的底部支座(2)包括紧靠在V字形斜槽底部的绝缘支座(201)和连接在绝缘支座(201)两端的金属支座(202)，独立斜边(6)通过支架(10)固定在金属支座(202)上。
3.根据权利要求1所述的用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源，其特征在于，加热片(4)与V字形斜槽之间设有设有绝缘片。 4.根据权利要求1所述的用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源，其特征在于，所说的加热电极(3)包括四片导电金属，每两片为一组，分别构成阴极(301)和阳极(302)，加热片(4)固定在阴极(301)和阳极(302)之间构成回路。
5.根据权利要求1～4任一项所述的用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源，其特征在于，独立斜边(6)之间的夹角为60～120°。
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说 明 书
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一种用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜设备，特别涉及一种适用于热蒸发型真空镀膜设备中使用的新型蒸发源。它是由一组V字形斜槽料斗和其底部的加热片所组成的。 背景技术
热蒸发型真空镀膜设备适用于蒸镀多种材料，是一种被广为使用于对各种形式基材进行镀膜加工的设备。其中热蒸发源是整个镀膜系统的重要组成部分，其性能的好坏直接影响到镀膜的质量，可以说蒸发源是整个镀膜系统的心脏。
现在被使用的热蒸发源多为舟型，根据蒸发舟的形状可分为敞口型和窄口型，根据蒸发舟使用数量的不同又可分为单个型和多个型。以上形式的蒸发源都存在有不同的缺陷。
使用敞口型蒸发源蒸镀时物料在达到升华温度后会迅速蒸发，蒸发速率在很短的时间内达到最大，然后随着物料的减少而逐步下降，这种形式的蒸发源，蒸发的稳定性不好，对蒸发量和蒸镀的厚度都很难控制，现在多被使用在一些试验用小型设备上。
使用窄口型蒸发源蒸镀时由于蒸发源的蒸发口很小，克服了敞口型物料被瞬间蒸发的缺点，提高了物料蒸发的稳定性，但随着物料的蒸发，一部分物料会在蒸发口冷却凝结，使蒸发口逐渐变小，蒸发量也随之下降，长时间使用还会导致蒸发口堵塞。因此这种形式的蒸发源多用于短时间蒸镀较薄的膜层，对于蒸镀较厚的膜层时就无法使用。
单个舟型蒸发源型一般用于小型镀膜设备，在大型设备中使用的单个舟型蒸发源在蒸镀时熔化蒸发物料作为电流的优良导体会导致蒸发源局部
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产生短路，致使整个蒸发源的发热不均，影响蒸镀的效果，严重的还会导致局部过热烧毁蒸发源。
现在在大型镀膜设备中多采用多个蒸发源系统来保证镀膜的效果和质量。但在已公开的专利中(如P4016225.7；DE970246
等)多个蒸发源系统只是在镀膜系统中使用多个舟型蒸发源，虽然可以弥补单个舟型蒸发源所存在的一些缺陷，但镀膜的均匀性和可控制性没有得到根本的改善。 发明内容
本实用新型需要解决的技术问题是设计一种用于热蒸发型真空镀膜设备的热蒸发源，以克服现有技术存在的镀膜的均匀性和可控制性不完美的缺陷。
本实用新型的技术方案：
一种在真空镀膜设备中使用的蒸发源，包括料斗、底部支座、加热电极和加热片。
其特征在于，所说的料斗为V字形斜槽，V字形斜槽通过支架固定在底部支座上，所说的加热片嵌在V字形斜槽的底部，并与加热电极相连接。 本实用新型改变了传统舟型蒸发源，盛放蒸发物料的料斗为V字形斜槽，物料的蒸发只依靠料斗底部的加热片。
本实用新型中V字形料斗底部的加热片在热蒸发时被电流加热，在达到一定温度后与其表面接触的蒸发物料受热蒸发。这种结构加热片的电阻、表面积均恒定，只要蒸发电流不变，其表面的温度就恒定，与其表面接触的蒸发物料蒸发速率的稳定性就得到大大的提高，同时很好的改善了对物料蒸发的控制性，只需调节蒸发电流就可调节物料的蒸发速率。 本实用新型中使用的V字形斜槽料斗在蒸发时并不被加热，其底部物料被蒸发后，由于物料本身重力的关系，后续物料会源源不断的沿料槽滑
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至底部，这种结构可以很好的保证蒸发的连续进行，适用于对不同厚度膜层的蒸镀，同时蒸发结束后未蒸发的物料没有受过热仍旧可以使用，大大节约了材料成本。
本实用新型提供的新型蒸发源可根据不同的需要进行组合使用，根据镀膜设备的尺寸可以在设备中安装一个或多个相互独立的这种新型的蒸发源，从而组成完整的蒸发系统。多个蒸发源在真空镀膜系统中的位置也可根据需要安置。
本实用新型提供的新型蒸发源克服了传统舟型蒸发源的缺陷，大幅度的提高了物料蒸发的稳定性，从而提高了镀膜的均匀性和质量。同时改善了对物料蒸发的可控制性，使镀膜过程更加易于控制和调节。这种新型的蒸发源适用于各种类型和尺寸的真空蒸发镀膜系统。 附图说明
图1为本实用新型的横截面图。 图2为本实用新型的俯视图。 具体实施方式
参见图1和图2，一种在真空镀膜设备中使用的蒸发源，包括料斗1、底部支座2、加热电极3和加热片4。
其特征在于，所说的料斗1为包括两个独立斜边6的V字形斜槽，独立斜边6之间的夹角为60～120°，独立斜边6通过支架10固定在底部支座2上，加热片4嵌在V字形斜槽的底部，加热片4与V字形斜槽之间设有设有绝缘片，加热片4可与V字形斜槽中的物料充分接触，加热片4与加热电极3相连接，热电极3固定在底部支座2上；
所说的底部支座2包括紧靠在V字形斜槽底部的绝缘支座201和连接在绝缘支座201两端的金属支座202，独立斜边(6)通过支架(10)固定在金属支座(202)上；
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所说的加热电极3包括四片导电金属，每两片为一组，分别构成阴极301和阳极302，加热片4固定在阴极301和阳极302之间构成回路。 可根据不同的需要，将上述的蒸发源进行组合使用，根据镀膜设备的尺寸可以在设备中安装一个或多个相互独立的这种新型的蒸发源，从而组成完整的蒸发系统。多个蒸发源在真空镀膜系统中的位置也可根据需要安置。
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说 明 书 附 图
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图1
图2
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