（12）发明专利申请
（21）申请号 CN201410191585.X （22）申请日 2014.05.07
（71）申请人 京东方科技集团股份有限公司
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
（10）申请公布号 CN103966548A
（43）申请公布日 2014.08.06
（72）发明人 谢明哲;谢春燕;刘陆
（74）专利代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人 申健
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
一种掩模板及其制作方法、掩模组件
（57）摘要
本发明实施例提供了一种掩模板及其制作
方法、掩模组件，涉及显示技术领域，可以提高蒸镀的均匀性，从而改善显示效果。该掩模板包括第一子掩模板和第二子掩模板；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本体和设置在所述掩模板本体上的蒸镀孔；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上的所述蒸镀孔尺寸相等且完全重叠；其中，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本体的材料均为具有
预定刚性的塑胶材料，且厚度为5～150μm。用于制备显示器中的有机材料层。
法律状态
法律状态公告日
2014-08-06 2014-09-03 2015-07-01
法律状态信息
公开
实质审查的生效 授权
法律状态
公开
实质审查的生效 授权
权利要求说明书
一种掩模板及其制作方法、掩模组件的权利要求说明书内容是....请下载后查看
说明书
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