专利名称：钽溅射靶及其制造方法专利类型：发明专利发明人：小田国博,福岛笃志申请号：CN200480009258.2申请日：20040219公开号：CN1771350A公开日：20060510
摘要：本发明通过对熔融铸造的钽锭或钽坯进行锻造、退火和轧制操作，从而提供了由此制得的钽溅射靶，其中所述钽靶的结构含有未再结晶结构。该钽溅射靶具有高淀积速度和出色的膜均一性，产生较少的电弧和粒子，并具有出色的成膜性能，并通过改进和修正诸如锻造和轧制的塑性加工步骤以及热处理步骤，提供能稳定制造所述钽靶的方法。
申请人：株式会社日矿材料
地址：日本东京
国籍：JP
代理机构：中原信达知识产权代理有限责任公司
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