专利名称：蚀刻液组合物专利类型：发明专利
发明人：李昔准,梁承宰,权五柄,李喻珍申请号：CN201080042912.5申请日：20101027公开号：CN102648270A公开日：20120822
摘要：本发明公开了一种蚀刻液组合物，用于包含含铜金属膜和含钼金属膜的双层或多层膜，基于所述组合物的总重，所述蚀刻液组合物包含：25～50wt％的HPO；0.1～7wt％的HNO；10～50wt％的CHCOOH；0.1～5wt％的环胺化合物；和余量水。
申请人：东友FINE-CHEM股份有限公司
地址：韩国全罗北道
国籍：KR
代理机构：上海旭诚知识产权代理有限公司
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