专利名称：一种全共轭嵌段聚电解质及其制备方法专利类型：发明专利
发明人：张雪勤,熊丽娜,林保平,章曙申请号：CN201510234237.0申请日：20150508公开号：CN104804176A公开日：20150729
摘要：本发明公开了全共轭嵌段聚电解质，属于高分子聚合物领域，其具有如下通式表示的结构：其中，A、B分别为共轭单元；m和n为聚合物主链结构的重复单元数，m、n均为大于零的正整数。本发明还公开了该电解质的制备方法。具有传统共轭聚合物的优良的光电性能，较宽的吸收光谱范围，可以实现光电性能的有效调节；增大了聚合物在溶液中的溶解性及导电性；聚合物有利于大面积的旋涂成膜，提高了溶液加工性；同时，该聚合物有利于器件性能的提高；本发明的制备该全共轭嵌段聚电解质的方法，步骤简单，合成的全共轭嵌段聚电解质性能优越。
申请人：东南大学
地址：210018 江苏省南京市玄武区四牌楼2号
国籍：CN
代理机构：南京苏高专利商标事务所(普通合伙)
代理人：张华蒙
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