专利名称：窑变釉及其制备工艺专利类型：发明专利
发明人：童新田,谢少元,张支清申请号：CN201811518507.0申请日：20181212公开号：CN109369012A公开日：20190222
摘要：本发明公开了一种窑变釉及其制备工艺，窑变釉所使用的釉料中含有的组分及各组分质量份如下：钾长石：20‑22份；钠长石：20‑22份；石英：8‑10份；方解石：30‑32份；贵州土：8‑10份；熔块：4‑5份；铝粉：8‑10份；黑色颜料：10‑12份。本发明釉表面起浮不平，具有形同雕琢的效果。
申请人：湖南德兴瓷业有限公司
地址：412200 湖南省株洲市醴陵市孙家湾镇孙家湾村荷塘组
国籍：CN
代理机构：深圳市千纳专利代理有限公司
代理人：何耀煌
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