光固化性转印片、及使用其的凹凸图案的形成方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：光固化性转印片、及使用其的凹凸图案的形成方法专利类型：发明专利

发明人：稻宫隆人,桥元贤志,甲斐田荣三申请号：CN201080041486.3申请日：20100916公开号：CN1024984A公开日：20120613

摘要：本发明提供一种光固化性转印片，其是能够有利地用于纳米压印工艺法中中间压模的制作的光固化性转印片，其与中间压模的制作时使用的具有微细凹凸图案的模具的脱模性、及与从中间压模转印了凹凸图案的光固化性树脂的脱模性良好，并且凹凸图案的转印性优异。本发明还提供一种使用上述光固化性转印片形成微细凹凸图案的方法。一种光固化性转印片(10)，其特征在于，其具有通过加压能够变形、由包含聚合物和反应性稀释剂的光固化性组合物形成的光固化性转印层(11)，上述聚合物由包含具有脂环基的(甲基)丙烯酸酯重复单元的丙烯酸树脂形成。进而，本发明还提供一种使用上述光固化性转印片来形成凹凸图案的方法。

申请人：株式会社普利司通

地址：日本东京都

国籍：JP

代理机构：北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)

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