专利名称：清洗装置专利类型：发明专利
发明人：木野村芳孝,平冈照雄,大川光治郎申请号：CN200510093697.2申请日：20050901公开号：CN1746330A公开日：20060315
摘要：本发明提供一种能去除附着在由金属薄膜所构成的屏蔽上的有机材料的清洗装置。本发明的清洗装置具有：由预定的清洗液清洗处理屏蔽10的第1及第2清洗槽21、22；用以真空蒸馏该清洗槽21、22的清洗液的真空蒸馏器30；将真空蒸馏的清洗液冷却至室温的第1冷却器31；使由第1冷却器31所冷却的清洗液回流至第2清洗槽22的第1回流管101；利用预定的冲洗液对屏蔽10进行冲洗处理的第1及第2冲洗槽51、52；在常压下蒸馏该冲洗槽51、52的清洗液的常压蒸馏器60；将常压蒸馏的冲洗液冷却至室温的第2冷却器61；使由第2冷却器61所冷却的冲洗液回流至第2冲洗槽52的第2回流管102。
申请人：三洋电机株式会社,十亿科技株式会社,大川兴产株式会社
地址：日本大阪
国籍：JP
代理机构：北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人：程伟
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